据BusinessKorea报道，三星电子副董事长李在镕于6月中旬结束了对欧洲的商务访问在此期间，他与ASML就引进荷兰半导体设备制造商的下一代极紫外光刻设备进行了会谈
报道称，李在镕6月14日在荷兰ASML总部会见了ASML首席执行官彼得·文宁克和首席技术官马丁·范登·布林克，就引进今年生产的EUV光刻设备和计划明年推出的高数值孔径EUV光刻设备达成了协议。
高NA EUV是下一代光刻设备，与现有的EUV光刻设备相比，可以雕刻更精细的电路被认为是改变游戏规则的设备，将决定3 nm以下OEM市场技术竞争的胜负
本站了解到，高NA EUV光刻设备的单价估计为5000亿韩元，是现有EUV光刻设备的两倍。
今年早些时候，英特尔宣布，它已经签署了一份合同，购买5台这种设备，用于2025年生产1.8纳米芯片TSMC 6月16日在美国硅谷技术研讨会上也表示，将于2024年在全球首次将高NA EUV光刻设备引入其工艺
在这场下一代EUV光刻设备的竞争中，三星电子还寻求获得最新的EUV设备李在镕此次欧洲之行主要是为了确保获得下一代高NA EUV光刻设备和目前正在生产的最新一代设备ASML今年只能生产50台EUV设备，交货期为一年到一年零六个月该公司有限的产能和较长的交货时间导致了高NA EUV光刻设备的预购竞争
三星电子将高NA EUV光刻设备实际应用于其半导体工艺的确切时间尚未确定可是，考虑到交付时间，预计三星电子将在2024年实际使用高NA EUV光刻设备
一些行业观察人士呼吁韩国政府对半导体设施的投资给予更多支持据报道，三星电子已经获得了今年计划生产的55台EUV光刻设备中的18台这意味着该公司仅在EUV光刻设备上的投资就将超过4万亿韩元
如果三星采购10台高NA EUV光刻设备，将使公司损失超过5万亿韩元，一位业内人士说，有必要扩大政府支持，以提高韩国的国家产业竞争力
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